問答題對(duì)RTP來說,很難在高溫下處理大直徑晶圓片而不在晶圓片邊緣造成熱塑應(yīng)力引起的滑移。分析滑移產(chǎn)生的原因。如果溫度上升速度加快后,滑移現(xiàn)象變得更為嚴(yán)重,這說明晶圓片表面上的輻射分布是怎樣的?
您可能感興趣的試卷
最新試題
什么是阻擋層金屬?阻擋層材料的基本特征是什么?哪種金屬常被用作阻擋層金屬?
題型:?jiǎn)柎痤}
什么是結(jié)深?
題型:?jiǎn)柎痤}
給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么?
題型:?jiǎn)柎痤}
解釋離子束擴(kuò)展和空間電荷中和。
題型:?jiǎn)柎痤}
例出光刻的8個(gè)步驟,并對(duì)每一步做出簡(jiǎn)要解釋。
題型:?jiǎn)柎痤}
描述曝光波長(zhǎng)和圖像分辨率之間的關(guān)系。
題型:?jiǎn)柎痤}
例舉離子注入設(shè)備的5個(gè)主要子系統(tǒng)。
題型:?jiǎn)柎痤}
光學(xué)光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個(gè)重要參數(shù)是什么?
題型:?jiǎn)柎痤}
例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數(shù)。
題型:?jiǎn)柎痤}
例舉并描出旋轉(zhuǎn)涂膠的4個(gè)基本步驟。
題型:?jiǎn)柎痤}