最新試題
離子源的目的是什么？最常用的離子源是什么？
例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。
什么是阻擋層金屬？阻擋層材料的基本特征是什么？哪種金屬常被用作阻擋層金屬？
定義刻蝕速率并描述它的計算公式。為什么希望有高的刻蝕速率？
刻蝕工藝有哪兩種類型？簡單描述各類刻蝕工藝。
解釋發(fā)生刻蝕反應的化學機理和物理機理。
例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數(shù)。
解釋光刻膠選擇比。要求的比例是高還是低？
解釋離子束擴展和空間電荷中和。
例舉并描出旋轉涂膠的4個基本步驟。
