問答題STI隔離技術中,為什么采用干法離子刻蝕形成槽?
您可能感興趣的試卷
最新試題
例出光刻的8個步驟,并對每一步做出簡要解釋。
題型:問答題
解釋掃描投影光刻機是怎樣工作的?掃描投影光刻機努力解決什么問題?
題型:問答題
例舉離子注入工藝和擴散工藝相比的優(yōu)點和缺點。
題型:問答題
什么是摻雜?例舉四種常用的摻雜雜質(zhì)并說明它們是n型還是p型?
題型:問答題
什么是阻擋層金屬?阻擋層材料的基本特征是什么?哪種金屬常被用作阻擋層金屬?
題型:問答題
解釋光刻膠顯影。光刻膠顯影的目的是什么?
題型:問答題
干法刻蝕的目的是什么?例舉干法刻蝕同濕法刻蝕相比具有的優(yōu)點。干法刻蝕的不足之處是什么?
題型:問答題
例舉雙大馬士革金屬化過程的10個步驟。
題型:問答題
解釋離子束擴展和空間電荷中和。
題型:問答題
定義刻蝕速率并描述它的計算公式。為什么希望有高的刻蝕速率?
題型:問答題