最新試題
哪種化學氣體經常用來刻蝕多晶硅？描述刻蝕多晶硅的三個步驟。
解釋什么是暗場掩模板？
例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。
例舉并討論引入銅金屬化的五大優(yōu)點。
解釋掃描投影光刻機是怎樣工作的？掃描投影光刻機努力解決什么問題？
例舉并解釋硅中固態(tài)雜質擴散的三個步驟。
解釋光刻膠顯影。光刻膠顯影的目的是什么？
解釋離子束擴展和空間電荷中和。
光學光刻中影響圖像質量的兩個重要參數(shù)是什么？
例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數(shù)。
