最新試題
解釋掃描投影光刻機(jī)是怎樣工作的？掃描投影光刻機(jī)努力解決什么問題？
題型：?jiǎn)柎痤}
什么是摻雜？例舉四種常用的摻雜雜質(zhì)并說明它們是n型還是p型？
題型：?jiǎn)柎痤}
哪種化學(xué)氣體經(jīng)常用來刻蝕多晶硅？描述刻蝕多晶硅的三個(gè)步驟。
題型：?jiǎn)柎痤}
什么是阻擋層金屬？阻擋層材料的基本特征是什么？哪種金屬常被用作阻擋層金屬？
題型：?jiǎn)柎痤}
解釋光刻膠選擇比。要求的比例是高還是低？
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例舉并解釋硅中固態(tài)雜質(zhì)擴(kuò)散的三個(gè)步驟。
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例舉并討論引入銅金屬化的五大優(yōu)點(diǎn)。
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刻蝕工藝有哪兩種類型？簡(jiǎn)單描述各類刻蝕工藝。
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解釋發(fā)生刻蝕反應(yīng)的化學(xué)機(jī)理和物理機(jī)理。
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描述曝光波長(zhǎng)和圖像分辨率之間的關(guān)系。
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