最新試題
在硅片制造中光刻膠的兩種目的是什么？
題型：問答題
敘述氮化硅的濕法化學(xué)去除工藝。
題型：問答題
光刻中采用步進(jìn)掃描技術(shù)獲得了什么好處？
題型：問答題
例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數(shù)。
題型：問答題
例舉并描出旋轉(zhuǎn)涂膠的4個(gè)基本步驟。
題型：問答題
解釋什么是暗場掩模板？
題型：問答題
例舉離子注入工藝和擴(kuò)散工藝相比的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)。
題型：問答題
刻蝕工藝有哪兩種類型？簡單描述各類刻蝕工藝。
題型：問答題
解釋正性光刻和負(fù)性光刻的區(qū)別？為什么正膠是普遍使用的光刻膠？最常用的正膠是指哪些膠？
題型：問答題
給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？
題型：問答題