問答題簡述外延的概念和作用？ 什么是同質外延？什么是異質外延？
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互連工藝中AL的制備可選用（）。
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濕氧氧化采用的氧化水溫是（）。
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硅暴露在空氣中，在室溫下即可產生二氧化硅層，厚度約為（）。
題型：單項選擇題
下面哪個選項不是集成電路工藝用化學氣體質量的指標？（）
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厚膜電阻的成分，一是導體顆粒，二是（）。
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刻蝕過程中聚合物形成的來源有（）。
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下面哪道工序主要是針對晶圓切割之后在顯微鏡下進行晶圓r的外觀檢查，是否有出現(xiàn)廢品？（）
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化學機械拋光液的主要成分不包括的是哪個？（）
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光刻工藝的設備核心是（）。
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消除鳥嘴效應的方法有（）。
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