半導(dǎo)體芯片制造工半導(dǎo)體制造技術(shù)問(wèn)答題每日一練(2019.03.15)
來(lái)源：考試資料網(wǎng)1.問(wèn)答題典型的光刻工藝主要有哪幾步？簡(jiǎn)述各步驟的作用。
2.問(wèn)答題簡(jiǎn)述在熱氧化過(guò)程中雜質(zhì)再分布的四種可能情況。
4.問(wèn)答題
以P2O2為例說(shuō)明SiO2的掩蔽過(guò)程。
5.問(wèn)答題在銅互連中，為什么要用銅擴(kuò)散阻擋層？阻擋層分成哪幾種，分別起什么作用？
