最新試題
干法刻蝕的目的是什么？例舉干法刻蝕同濕法刻蝕相比具有的優(yōu)點。干法刻蝕的不足之處是什么？
題型：問答題
解釋發(fā)生刻蝕反應的化學機理和物理機理。
題型：問答題
給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？
題型：問答題
例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數(shù)。
題型：問答題
描述曝光波長和圖像分辨率之間的關(guān)系。
題型：問答題
例舉并描出旋轉(zhuǎn)涂膠的4個基本步驟。
題型：問答題
描述RF濺射系統(tǒng)。
題型：問答題
光學光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個重要參數(shù)是什么？
題型：問答題
例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。
題型：問答題
在硅片制造中光刻膠的兩種目的是什么？
題型：問答題