1）質量傳輸 2）薄膜先驅物反應 3）氣體分子擴散 4）先驅物吸附 5）先驅物擴散進襯底 6）表面反應 7）副產物解吸 8）副產物去除
最新試題
離子源的目的是什么？最常用的離子源是什么？
給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？
什么是阻擋層金屬？阻擋層材料的基本特征是什么？哪種金屬常被用作阻擋層金屬？
解釋離子束擴展和空間電荷中和。
解釋光刻膠選擇比。要求的比例是高還是低？
例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。
解釋光刻膠顯影。光刻膠顯影的目的是什么？
光刻中采用步進掃描技術獲得了什么好處？
例舉離子注入設備的5個主要子系統(tǒng)。
刻蝕工藝有哪兩種類型？簡單描述各類刻蝕工藝。
