問答題名詞解釋：high-k；low-k；Fabless；Fablite；IDM；Foundry；Chipless。
您可能感興趣的試卷
最新試題
解釋正性光刻和負性光刻的區(qū)別？為什么正膠是普遍使用的光刻膠？最常用的正膠是指哪些膠？
題型：問答題
例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。
題型：問答題
解釋離子束擴展和空間電荷中和。
題型：問答題
光刻中采用步進掃描技術(shù)獲得了什么好處？
題型：問答題
定義刻蝕選擇比。干法刻蝕的選擇比是高還是低？高選擇比意味著什么？
題型：問答題
解釋掃描投影光刻機是怎樣工作的？掃描投影光刻機努力解決什么問題？
題型：問答題
什么是摻雜？例舉四種常用的摻雜雜質(zhì)并說明它們是n型還是p型？
題型：問答題
刻蝕工藝有哪兩種類型？簡單描述各類刻蝕工藝。
題型：問答題
例舉離子注入設(shè)備的5個主要子系統(tǒng)。
題型：問答題
解釋光刻膠顯影。光刻膠顯影的目的是什么？
題型：問答題