問答題例舉出芯片廠中6個(gè)不同的生產(chǎn)區(qū)域并對每一個(gè)生產(chǎn)區(qū)域做簡單描述。
您可能感興趣的試卷
最新試題
例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數(shù)。
題型:問答題
解釋掃描投影光刻機(jī)是怎樣工作的?掃描投影光刻機(jī)努力解決什么問題?
題型:問答題
定義刻蝕選擇比。干法刻蝕的選擇比是高還是低?高選擇比意味著什么?
題型:問答題
描述RF濺射系統(tǒng)。
題型:問答題
例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。
題型:問答題
光刻中采用步進(jìn)掃描技術(shù)獲得了什么好處?
題型:問答題
光學(xué)光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個(gè)重要參數(shù)是什么?
題型:問答題
例舉離子注入設(shè)備的5個(gè)主要子系統(tǒng)。
題型:問答題
解釋光刻膠選擇比。要求的比例是高還是低?
題型:問答題
解釋離子束擴(kuò)展和空間電荷中和。
題型:問答題